半导体材料中痕量杂质元素分析专题

半导体材料作为现代电子器件的基础材料之一，其性能直接受到杂质元素的影响。痕量杂质元素的存在会对半导体材料的电学性能、光学性能和稳定性等方面产生重要影响，因此准确、快速地分析半导体材料中的痕量杂质元素具有重要意义。当前，常用的痕量杂质元素分析方法包括但不限于质谱分析、原子吸收光谱、X射线荧光光谱等技术。这些分析方法在实验室和工业生产中得到广泛应用，为半导体材料中痕量杂质元素的准确检测和定量分析提供了重要手段。实验与分析将举办“半导体材料中痕量杂质元素分析专题”专题公开课，欢迎大家交流讨论。

15:00-16:00 NexION系列ICPMS在半导体材料元素分析中的解决方案

主讲人：徐俊俊珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司 ICPMS技术支持工程师

内容简介：

半导体产业链及材料简介，元素杂质污染对半导体材料研发的重要性。

活动介绍

线下活动