半导体湿电子化学品(又称超净高纯电子试剂)是集成电路制造中用量最大、应用最广的关键材料之一，广泛用于晶圆清洗、蚀刻、去胶、显影等核心工序，其纯度与洁净度直接决定芯片制造良率。随着半导体制程向 14nm 及以下先进节点持续演进，G4、G5 级高端湿电子化学品对金属杂质的控制要求已降至 10ppt 乃至 1ppt 量级，颗粒物、阴离子、总有机碳等指标的检测下限不断刷新，对分析检测技术提出了前所未有的挑战。当前，湿电子化学品检测面临多重现实痛点，为此，实验与分析特举办本次专题，旨在为专业人士提供一个交流学习的平台，推动检测技术进步与产业应用落地，为我国半导体材料供应链的自主可控和高质量发展提供技术支撑。

　　14:00–15:00 湿电子化学品检测技术

　　主讲人：李春华 上海集成电路材料研究院有限公司 主任

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　　湿电子化学品介绍，重点介绍痕量杂质的检测技术，包含阳离子检测，阴离子检测，颗粒检测等。

　　15:00–16:00 奥秘领航-电位滴定在湿电子化学品中的应用

　　主讲人：喻宏伟 瑞士万通中国有限公司 产品经理

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　　本报告将带你纵览半导体上游高纯试剂、中游晶圆制造用刻蚀液/清洗液/显影液、下游封装材料的检测需求，通过典型应用案例，展示电位滴定仪在各类湿电子化学品分析中的关键作用。并介绍OMNIS奥秘自动化平台如何以智能加液、自动样品处理、复合检测，攻克精准分析、强腐蚀样品等难关，显著提升检测效率、重复性与数据可靠性，为湿电子化学品品质管控保驾护航。