半导体湿电子化学品检测技术专题研讨会报名启动

牛亚伟 2026-10-16

特邀两位重磅嘉宾带来一线实战经验与解决方案，欢迎报名参会，交流探讨！

提到芯片制造，大家最先想到光刻机、光刻胶。但有一种液体材料，贯穿晶圆上百道湿法工序，直接影响芯片良率与器件可靠性，它就是湿电子化学品，又称超净高纯试剂、工艺化学品。

湿电子化学品指主体成分纯度＞99.99%，金属杂质、颗粒等指标满足SEMI G1-G5 级标准的专用化学试剂，主要分为两类：

✅ 通用化学品：以高纯溶剂为主，如过氧化氢、氢氟酸、硫酸、磷酸、盐酸、硝酸等，多用于基础清洗、简易刻蚀；

✅ 功能性化学品：复配配方型试剂，包括显影液、剥离液、清洗液、刻蚀液，满足定制化工艺需求。

在半导体产线中，从晶圆清洗、蚀刻，到去胶、显影，每一道湿法工艺都离不开湿电子化学品。试剂品质直接决定芯片性能、生产良率，是半导体制程的 “隐形守门员”。因此，半导体制程对湿电子化学品设置了极为严苛的指标门槛：

1.超高纯度：主成分≥99.99%，金属及离子杂质需控制在ppb甚至ppt级别，微量杂质即可造成器件失效；

2.颗粒管控：颗粒控制在亚微米/纳米级，防止晶圆表面颗粒污染引发器件缺陷；

3.批次稳定性：pH、浓度等参数稳定，批次差异小，保障工艺可重复量产；

4.反应兼容性：无多余副反应，精准完成清洗、蚀刻等预设工艺；

5.包装输送：选用PFA等低溶出耐腐蚀容器，规避储运过程二次污染；

6.安全环保：低毒低挥发，废液易回收处理，符合法规要求。

湿化学品检测：守住制程底线

湿化学品检测，就是对半导体液态试剂开展系统分析测量，验证各项指标是否满足严苛制程标准，主要检测维度包括：

1.化学组成分析：利用光谱、质谱、色谱等技术，确定试剂组分与含量；

2.浓度测量：滴定法、光谱、电化学分析，校验组分浓度匹配工艺规格；

3.pH 值测量：高精度pH电极实时监测，酸碱性直接左右化学反应效果；

4.杂质检测：光谱、质谱、离子色谱等手段，检出微量金属离子、阴离子等有害杂质。

为帮助行业同仁系统掌握湿电子化学品检测方法与落地应用，《实验与分析》特于10月29日举办【半导体湿电子化学品检测技术及应用】专题研讨会，特邀两位重磅嘉宾，带来一线实战经验与解决方案，欢迎分析测试、半导体材料领域同仁报名参会，交流探讨！

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责任编辑：展源

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